说明:
- 优化了挂件的使用方式,优化了挂件和镜像块蒙版的展示效果,优化底部工具栏的展示位置
新增:
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新增了挂件的快捷穿透蒙版功能:按住 ctrl 键 + 左键单击节点,可以快速聚焦节点,直接进行编辑
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底部工具栏新增禅模式按钮,现在移动端不必调出右键菜单就能直接进入禅模式了
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新增了镜像块的一键跳转编辑功能,点击镜像块的右上角,即可跳转到源导图进行编辑(pro)
优化:
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优化了挂件和镜像块蒙版的展示效果,现在只有鼠标划上去,才会展示蒙版提示
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优化底部工具栏的位置,现在会随着侧栏的展开而动态更改位置了,避免被覆盖
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